2019年06月13日
什么是PDS固態(tài)源?
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在微電子行業(yè)中，對硅片進行擴散需要用到硼或者磷源。
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離子注入是8“及以上尺寸硅片最常用的方式，液態(tài)或者氣態(tài)源則廣泛用在均勻性要求不高的工藝中。而固態(tài)擴散源是一種高要求擴散的優(yōu)良的解決方案。圣戈班從上世紀70年代開始開發(fā)固態(tài)源工藝，目前提供全方位的產(chǎn)品和技術支持。PDSR是Planar Diffusion Sources (平面擴散源)的商標。
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為什么要用PDS固態(tài)源？
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首先是均勻性良好，一般使用者反饋片內(nèi)和片間均勻性可以控制到1%~2%。且成品缺陷程度率低。
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其次是PDS固態(tài)源無毒無害，相較于液態(tài)或者氣態(tài)源，PDS的設備毒害防護要求很低既環(huán)保又保證符合國家對環(huán)保的要求。從液態(tài)或者氣態(tài)源改造為固態(tài)源僅需要修改氣路，添置專用石英舟等簡單改造即可使用。
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使用固態(tài)源產(chǎn)生的參雜劑封閉在硅片周圍，不會附著在設備管道或者門上，易于設備清理和維護。
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可以簡單通過擴散溫度，時間和氣流來控制需要的目標產(chǎn)品，不連續(xù)生產(chǎn)的時候也方便取出和保存。
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通過工藝中間的膜厚測量可以預判生產(chǎn)的品質(zhì)質(zhì)量。
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跟離子注入相比，固態(tài)源一次擴散一個舟可以擴散25片，效率高節(jié)約時間成本。
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PDS固態(tài)源有那么多優(yōu)勢為什么我?guī)缀鯖]有聽說過？
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PDS固態(tài)源在世界范圍內(nèi)有非常多的商業(yè)量產(chǎn)的實績，幾十年來客戶的持續(xù)使用也證明了產(chǎn)品的穩(wěn)定性。在中國早期有非常多的工程師了解這個工藝。由于離子注入和液態(tài)氣態(tài)有非常多的從業(yè)者從而導致整個工藝為行業(yè)所熟悉，高端的會選用離子注入，低端的會選擇液態(tài)氣態(tài)。目前由于
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1）國家環(huán)保要求，液態(tài)氣態(tài)源的生產(chǎn)會面臨一定的環(huán)保風險，
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2）MEMS器件的生產(chǎn)擴張，高濃度擴散需要熱擴散工藝，
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3）中高品位產(chǎn)品的需求增長。
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PDS固態(tài)源收到了越來越多的詢盤。
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PDS固態(tài)源有什么局限性？
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-PDS固態(tài)源目前可以做到的極限尺寸為8“。
-只能適用于水平爐管而不能用于垂直爐管
-原來液態(tài)氣態(tài)擴散路需要進行氣路改造才能使用，過程需要通氮氣
-需要專用的石英舟配合
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PDS固態(tài)源的技術支持夠嗎？
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